文書・図像類

イオンビームを用いたβ-FeSi2薄膜の合成とその空孔型欠陥評価

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イオンビームを用いたβ-FeSi2薄膜の合成とその空孔型欠陥評価

資料種別
文書・図像類
著者
薮内, 敦ほか
出版者
-
出版年
2018-12-10
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

QST 高崎サイエンスフェスタ 2018

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書誌情報

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資料種別
文書・図像類
著者・編者
薮内, 敦
木野村, 敦
前川, 雅樹
河裾, 厚男
前川 雅樹
河裾 厚男
出版年月日等
2018-12-10
出版年(W3CDTF)
2018-12-10
本文の言語コード
jpn
対象利用者
一般
一般注記
QST 高崎サイエンスフェスタ 2018
連携機関・データベース
国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース(IRDB)(機関リポジトリ)