テンプレート層を用いたSi基板上への鉄酸化物膜の作製

• 資料種別: 文書・図像類
• タイトル: テンプレート層を用いたSi基板上への鉄酸化物膜の作製
• 著者・編者: 山中, 健太; 山口, 憲司; Yamanaka, Kenta; Yamaguchi, Kenji
• 著者標目: 山中, 健太; 山口, 憲司; Yamanaka, Kenta; Yamaguchi, Kenji
• 出版年月日等: 2020-03-14
• 出版年（W3CDTF）: 2020-03-14
• 本文の言語コード: jpn
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 第67回応用物理学会春季学術講演会
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• 提供元機関・データベース: 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 : 量子科学技術研究開発機構 学術機関リポジトリ

• 要約等: 我々は以前テンプ レート層の材料として MgO を用いて Si 基板上に Fe3O4の薄膜を作製したが、MgO 膜の作製温度が常温付近に限定され、高い結晶性の膜を得るに至っていない。この問題点を克服するため、高温でも安定であり、Si との反応性が低い物質をテンプレート層に採用することを検討した。その...