抗酸化物質のラジカル消去機構に対する反応環境の影響

• 資料種別: 文書・図像類
• タイトル: 抗酸化物質のラジカル消去機構に対する反応環境の影響
• 著者・編者: 中西, 郁夫; Nakanishi, Ikuo
• 著者標目: 中西, 郁夫; Nakanishi, Ikuo
• 出版年月日等: 2020-10-06
• 出版年（W3CDTF）: 2020-10-06
• 本文の言語コード: jpn
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 第73回日本酸化ストレス学会・第20回日本NO学会 合同学術集会
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• 提供元機関・データベース: 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 : 量子科学技術研究開発機構 学術機関リポジトリ

• 要約等: 抗酸化物質は活性酸素種やラジカル種に対して優れた消去活性を示すため、酸化還元（レドックス）状態の制御による酸化ストレス抑制への応用が期待されている。抗酸化物質によるラジカル消去反応では、抗酸化物質からラジカルへの水素移動が起こっている。さらに、この水素移動反応には、「一段階の水素原子移動」および「電...