水へのX線または炭素イオン線照射により局所的に極めて密に生成するヒドロキシルラジカルの初期局所濃度の測定

• 資料種別: その他
• タイトル: 水へのX線または炭素イオン線照射により局所的に極めて密に生成するヒドロキシルラジカルの初期局所濃度の測定
• 著者・編者: 松本, 謙一郎; 上野, 恵美; 荘司, 好美; 中西, 郁夫; Kenichiro, Matsumoto; Megumi, Ueno; Yoshimi, Shoji; Ikuo, Nakanishi
• 著者標目: 松本, 謙一郎; 上野, 恵美; 荘司, 好美; 中西, 郁夫; Kenichiro, Matsumoto; Megumi, Ueno; Yoshimi, Shoji; Ikuo, Nakanishi
• 出版年月日等: 2021-05-19
• 出版年（W3CDTF）: 2021
• 並列タイトル等: Estimation of the local concentration of the markedly dense hydroxyl radical generation induced by X-rays and carbon-ion beam in water
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 第74回日本酸化ストレス学会・第21回日本NO学会 合同学術集会
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• 提供元機関・データベース: 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 : 量子科学技術研究開発機構 学術機関リポジトリ

• 要約等: 放射線による水中でのヒドロキシルラジカル（•OH）生成には、mMレベルの比較的疎な生成とMレベルの極めて密な生成があることを報告した。疎な生成は約6.3−7.3 nmの間隔で生じていることが測定できたが、極めて密な生成については0.9 nm以下の距離間隔で生成していることは推測できるものの、具体的な...