Studies on precisely controlled isotropic etching and its application to semiconductor device fabrication

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資料種別: 博士論文
タイトル: Studies on precisely controlled isotropic etching and its application to semiconductor device fabrication
著者・編者: SHINODA, Kazunori
篠田, 和典
著者標目: SHINODA, Kazunori
篠田, 和典
出版年月日等: 2019-09-27
出版年（W3CDTF）: 2019-09-27
並列タイトル等: 高精度等方性エッチングとその半導体デバイス製造への応用に関する研究
授与機関名: 名古屋大学
授与年月日: 2019-09-27
報告番号: 甲第12885号
学位: 博士(工学)
本文の言語コード: eng
対象利用者: 一般
記録形式（IMT）: application/pdf
連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
提供元機関・データベース: 名古屋大学 : 名古屋大学学術機関リポジトリ