イオンビーム手法によるGeナノ構造体の低温形成と評価

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資料種別: 博士論文
タイトル: イオンビーム手法によるGeナノ構造体の低温形成と評価
著者・編者: 宮脇, 亜子
著者標目: 宮脇, 亜子
並列タイトル等: イオン　ビーム　シュホウ　ニヨル　Ge　ナノ　コウゾウタイ　ノ　テイオン　ケイセイ　ト　ヒョウカ
授与機関名: 名古屋工業大学
授与年月日: 2012-03-23
報告番号: 甲第842号
学位: 博士(工学)
本文の言語コード: jpn
件名標目: ナノ構造体
イオン照射
低温形成
イオン誘起
対象利用者: 一般
一般注記: 主査：種村　眞幸
記録形式（IMT）: application/pdf
一次資料へのリンクURL: fulltext
https://nitech.repo.nii.ac.jp/?action=repository_action_common_download&item_id=3026&item_no=1&attribute_id=13&file_no=1
fulltext
https://nitech.repo.nii.ac.jp/?action=repository_action_common_download&item_id=3026&item_no=1&attribute_id=13&file_no=2
オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
提供元機関・データベース: 名古屋工業大学 : 名古屋工業大学学術機関リポジトリ