極端紫外線（EUV）を用いたリソグラフィ基礎技術

資料に関する注記

一般注記：: 第1章序論||第2章実証光学系露光装置の開発・解像性能実証||第3章高性能EUV分子レジストの開発||第4章原子状水素による低損傷コンタミネーションクリーニング技術||第5章結論||謝辞||研究業績 ||本論文に関係する公表論文 ||国際会議発表||九州工業大学博士学位論文学位記番号: ...

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資料種別: 博士論文
タイトル: 極端紫外線（EUV）を用いたリソグラフィ基礎技術
著者・編者: 老泉, 博昭
著者標目: 老泉, 博昭
並列タイトル等: Development of Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography
授与機関名: 九州工業大学
授与年月日: 2007-03-23
報告番号: 甲第252号
学位: 博士（工学）
本文の言語コード: jpn
件名標目: Lithography
multilayer
EUV
resist
Atomic hydrogen
対象利用者: 一般
一般注記: 第1章序論||第2章実証光学系露光装置の開発・解像性能実証||第3章高性能EUV分子レジストの開発||第4章原子状水素による低損傷コンタミネーションクリーニング技術||第5章結論||謝辞||研究業績 ||本論文に関係する公表論文 ||国際会議発表||
九州工業大学博士学位論文学位記番号: 工博甲第252号学位授与年月日: 平成19年3月23日
平成18年度
DOI: 10.18997/00000054
記録形式（IMT）: application/pdf
一次資料へのリンクURL: kou_k_252.pdf （fulltext）
https://kyutech.repo.nii.ac.jp/record/60/files/kou_k_252.pdf
オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
提供元機関・データベース: 九州工業大学 : キューテイカー