電気化学及び熱化学プロセスによるシリコンの形成と構造制御

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資料種別: 博士論文
タイトル: 電気化学及び熱化学プロセスによるシリコンの形成と構造制御
著者・編者: Nishimura, Yusaku
著者標目: Nishimura, Yusaku
出版事項: Kyoto University
出版年月日等: 2010-03-23
出版年（W3CDTF）: 2010-03-23
並列タイトル等: Formation and Structural Control of Silicon in Electrochemical and Thermochemical Processes
寄与者: 萩原, 理加
尾形, 幸生
野平, 俊之
授与機関名: 京都大学
授与年月日: 2010-03-23
報告番号: 甲第15493号
学位: 博士(エネルギー科学)
Doctor of Energy Science
本文の言語コード: eng
著者別名: 西村, 友作
ニシムラ, ユウサク
NDC: 501
対象利用者: 一般
オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
提供元機関・データベース: 京都大学 : 京都大学学術情報リポジトリ