超短パルス高出力フラッシュランプ照射による単結晶シリコン加工変質層の完全修復

資料種別: 文書・図像類

著者: 閻, 紀旺

出版者: -

出版年: 2012

資料形態: デジタル

ページ数・大きさ等: -

NDC: -

すべて見る

資料に関する注記

一般注記：: type:text超短パルス高出力フラッシュランプを単結晶シリコン機械加工面に照射し、加工変質層の修復を試みた. 表層アモルファスシリコンの溶融・再結晶の過程を解明するために分子動力学を用いてシミュレーション解析を行い、レーザ照射との比較を行った. また、シリコン研削面および切削面を実験対象として照...

書店で探す

全国の図書館の所蔵

国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。

連携機関・データベースの一覧

所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください

その他

慶應義塾大学学術情報リポジトリ
デジタル
連携先のサイトで、学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）が連携している機関・データベースの所蔵状況を確認できます。
慶應義塾大学学術情報リポジトリのサイトでこの本を確認

書店で探す

書誌情報

この資料の詳細や典拠（同じ主題の資料を指すキーワード、著者名）等を確認できます。

デジタル

資料種別: 文書・図像類
タイトル: 超短パルス高出力フラッシュランプ照射による単結晶シリコン加工変質層の完全修復
著者・編者: 閻, 紀旺
著者標目: 閻, 紀旺
出版年月日等: 2012
出版年（W3CDTF）: 2012
並列タイトル等: チョウタンパルスコウシュツリョクフラッシュランプショウシャニヨルタンケッショウシリコンカコウヘンシツソウノカンゼンシュウフク
Chotan parusu koshutsuryoku furasshu ranpu shosha ni yoru tankessho shirikon kako henshitsuso no kanzen shufuku
Subsurface damage recovery of single crystal silicon by ultra-short high-output flash lamp irradiation
タイトル（掲載誌）: 科学研究費補助金研究成果報告書
本文の言語コード: jpn
件名標目: 超精密加工,加工変質層,単結晶シリコン,フラッシュランプ,レーザ
対象利用者: 一般
一般注記: type:text
超短パルス高出力フラッシュランプを単結晶シリコン機械加工面に照射し、加工変質層の修復を試みた. 表層アモルファスシリコンの溶融・再結晶の過程を解明するために分子動力学を用いてシミュレーション解析を行い、レーザ照射との比較を行った. また、シリコン研削面および切削面を実験対象として照射実験を行った結果、加工変質層の修復効果が確認された。一方、問題点として、照射時の衝撃波によるウエハ破壊が観察された。
研究種目 : 挑戦的萌芽研究研究期間 : 2011～2012 課題番号 : 23656094 研究分野 : 生産工学・加工学科研費の分科・細目 : 超精密加工
一次資料へのリンクURL: https://koara.lib.keio.ac.jp/xoonips/modules/xoonips/download.php?koara_id=KAKEN_23656094seika
https://koara.lib.keio.ac.jp/xoonips/modules/xoonips/download.php?koara_id=KAKEN_23656094seika
オンライン閲覧公開範囲: 限定公開
関連情報: 科研費研究者番号 : 40323042
連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
提供元機関・データベース: 慶應義塾大学 : 慶應義塾大学学術情報リポジトリ