ホロカソード放電型スパッタ装置によるフリーカーボン含有高潤滑コーティング膜の創成

資料種別: 文書・図像類

著者: 細川, 晃ほか

出版者: -

出版年: 2015-06-09

資料形態: デジタル

ページ数・大きさ等: -

NDC: -

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資料に関する注記

一般注記：: 金沢大学理工研究域機械工学系“ホローカソード放電型スパッタ装置(HCD)”と同等の機能を有しながら，機能性・拡張性に富む “アーク放電収束プラズマ輸送型イオンプレーティング装置(VACS-100)”を用い，ドロップレットがほとんどない極めて平滑なコーティング膜の生成に成功した．FAD(Filtere...

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書誌情報

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デジタル

資料種別: 文書・図像類
タイトル: ホロカソード放電型スパッタ装置によるフリーカーボン含有高潤滑コーティング膜の創成
著者・編者: 細川, 晃
Hosokawa, Akira
著者標目: 細川, 晃
Hosokawa, Akira
出版年月日等: 2015-06-09
出版年（W3CDTF）: 2015-06-09
並列タイトル等: Creation of high Lubricating film containing free carbon by hollow cathode discharge spattering coating equipment
タイトル（掲載誌）: 平成26(2014)年度科学研究費補助金基盤研究(B) 研究成果報告書 = 2014 Fiscal Year Final Research Report
巻号年月日等（掲載誌）: 2012-04-01 - 2015-03-31
掲載巻: 2012-04-01 - 2015-03-31
掲載ページ: 5p.-
本文の言語コード: jpn
件名標目: PVD
FAD法
AIP法
ドロップレット
密着強度
エンドミル
切削抵抗
工具摩耗
対象利用者: 一般
一般注記: 金沢大学理工研究域機械工学系
“ホローカソード放電型スパッタ装置(HCD)”と同等の機能を有しながら，機能性・拡張性に富む “アーク放電収束プラズマ輸送型イオンプレーティング装置(VACS-100)”を用い，ドロップレットがほとんどない極めて平滑なコーティング膜の生成に成功した．FAD(Filtered Arc Deposition)法を成膜原理とするこの装置で生成したTiN膜は，通常のAIP法やHCD法に比べて膜硬度や密着性に優れており，この膜をコーティングしたエンドミルは，プリハードン鋼(JIS SUS420J2)の乾式側面切削において良好な耐摩耗性と切削性を示した．
Availability of the TiN-coated film deposited by Filtered Arc Deposition (FAD) method is investigated. In FAD method, the extremely smooth surface is formed without any droplets (macro particles) due to the magnetic filtering. The mechanical properties such as hardness, adhesion strength and friction coefficient of coated film depend considerably on the deposition conditions. The TiN-coated end mill has good mechanical properties such as hardness and adhesion strength when the bias voltage is -50 V with N2 flow rate of 20 cc/min, and this tool is effective in high speed milling of prehardened steel (JIS SUS420J2) than commercially available AIP and HCD (Hollow cathode discharge) tools.
研究課題/領域番号:24360054, 研究期間(年度):2012-04-01 - 2015-03-31
DOI: 10.24517/00053770
一次資料へのリンクURL: https://kanazawa-u.repo.nii.ac.jp/?action=repository_action_common_download&item_id=47443&item_no=1&attribute_id=26&file_no=1
https://kanazawa-u.repo.nii.ac.jp/?action=repository_action_common_download&item_id=47443&item_no=1&attribute_id=26&file_no=1
オンライン閲覧公開範囲: 限定公開
著作権情報: CC BY-NC-ND
関連情報: https://kaken.nii.ac.jp/search/?qm=40199493
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-24360054/
https://kaken.nii.ac.jp/report/KAKENHI-PROJECT-24360054/24360054seika/
連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
提供元機関・データベース: 金沢大学 : 金沢大学学術情報リポジトリKURA