10 nm スケールのミクロ相分離構造を構築するためのポリスチレン-ポリメタクリル酸メチルブロック共重合体の高分子修飾 [論文内容及び審査の要旨]

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: 10 nm スケールのミクロ相分離構造を構築するためのポリスチレン-ポリメタクリル酸メチルブロック共重合体の高分子修飾 [論文内容及び審査の要旨]
• 著者・編者: 吉田, 康平
• 著者標目: 吉田, 康平
• 出版事項: Hokkaido University
• 出版年月日等: 2019-03-25
• 出版年（W3CDTF）: 2019-03-25
• 並列タイトル等: Postpolymerization Modification of Polystyrene-block-Poly(methyl methacrylate) to Fabricate 10-nm-Scale Microphase-Separated Structure [an abstract of dissertation and a summary of dissertation review]
• 寄与者: 渡慶次, 学; 佐藤, 敏文; 佐田, 和己; 田島, 健次; 山本, 拓矢
• 授与機関名: 北海道大学
• 報告番号: 甲第13691号
• 学位: 博士(工学)
• 本文の言語コード: jpn
• NDC: 500
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: (主査) 教授 渡慶次 学, 教授 佐藤 敏文, 教授 佐田 和己, 准教授 田島 健次, 准教授 山本 拓矢; 総合化学院（総合化学専攻）
• 記録形式（IMT）: application/pdf
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 著作権情報: Creative Commons Attribution-NonCommercial-ShareAlike 4.0 International
• 参照（URI）: HDL; http://hdl.handle.net/2115/77035
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• 提供元機関・データベース: 北海道大学 : 北海道大学学術成果コレクション

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