レーザを用いたリソグラフィ用マスクアライナの開発

資料種別: 文書・図像類

著者: 周, 礼中ほか

出版者: 愛知工業大学

出版年: 1998-03-31

資料形態: デジタル

ページ数・大きさ等: -

NDC: -

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資料に関する注記

一般注記：: Precision linear-position control using moire signals have been investigated for a mask-alignment on the lithographic processes. Differential moire te...

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書誌情報

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デジタル

資料種別: 文書・図像類
タイトル: レーザを用いたリソグラフィ用マスクアライナの開発
著者・編者: 周, 礼中
劉, 京南
古橋, 秀夫
内田, 悦行
著者標目: 周, 礼中
劉, 京南
古橋, 秀夫
内田, 悦行
出版事項: 愛知工業大学
出版年月日等: 1998-03-31
出版年（W3CDTF）: 1998-03-31
並列タイトル等: レーザオモイチタリソグラフィヨウマスクアライナノカイハツ
Development of A Mask-Aligner using A Laser for the Lithographic Processes
タイトル（掲載誌）: 愛知工業大学研究報告. B, 専門関係論文集 = Bulletin of Aichi Institute of Technology. Part B
巻号年月日等（掲載誌）: 33
掲載巻: 33
掲載ページ: 171-176
ISSN（掲載誌）: ISSN : 0387-0812
本文の言語コード: jpn
対象利用者: 一般
一般注記: Precision linear-position control using moire signals have been investigated for a mask-alignment on the lithographic processes. Differential moire technique using two grating pairs 180°out of phase was used. With the reduction of the noises, and improvement of the stability of the laser out put power, the linear-alignment accuracy of ±4nm was obtained. Furthermore, rotational-position control using differential moire technique has been investigated. The rotational-alignment accuracy of ±4×(10)^<-7> rad has been obtained.
identifier:http://repository.aitech.ac.jp/dspace/handle/11133/1060
オンライン閲覧公開範囲: 限定公開
掲載誌（NCID）: AN00007801
https://ci.nii.ac.jp/ncid/AN00007801
連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
提供元機関・データベース: 愛知工業大学 : 愛知工業大学学術情報リポジトリ