分子線エピタキシーにより作製され, 有機ガスで処理されたバナジルフタロシアニン薄膜の配向

• 資料種別: 文書・図像類
• タイトル: 分子線エピタキシーにより作製され, 有機ガスで処理されたバナジルフタロシアニン薄膜の配向
• 著者・編者: 中野, 寛之; 前田, 昭徳; 古橋, 秀夫; 吉川, 俊夫; 内田, 悦行; 小嶋, 憲三; 大橋, 朝夫; 落合, 鎮康
• 著者標目: 中野, 寛之; 前田, 昭徳; 古橋, 秀夫; 吉川, 俊夫; 内田, 悦行; 小嶋, 憲三; 大橋, 朝夫; 落合, 鎮康
• 出版事項: 愛知工業大学
• 出版年月日等: 2001-06-30
• 出版年（W3CDTF）: 2001-06-30
• 並列タイトル等: ブンシセン エピタキシー ニヨリ サクセイ サレ ユウキ ガス デ ショリ サレタ バナジルフタロシアニン ハクマク ノ ハイコウ; Orientation of Vanadyl-Phthalocyanine Film Prepared by Molecular Beam Epitaxy and Treated in Organic Gas
• タイトル（掲載誌）: 総合技術研究所研究報告=Bulletin of Research Institute for Industrial Technology.
• 巻号年月日等（掲載誌）: 3
• 掲載巻: 3
• 掲載ページ: 63-66
• ISSN（掲載誌）: ISSN : 1344-9672
• 本文の言語コード: eng
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: In this paper, the VOPc film was prepared on KBr substrate by OMBD. After that, it was treated in organic gas. The thickness of VOPc film was 96 nm. The morphologies of VOPc film before and after the gas treatment were characterized with optical absorption (VIS/UV) spectra and SEM image. The third-harmonic generation (THG) of VOPc film before and after the gas treatment were also measured by Maker fringe method using a Nd-YAG laser.; identifier:http://repository.aitech.ac.jp/dspace/handle/11133/1596
• オンライン閲覧公開範囲: 限定公開
• 掲載誌（NCID）: AA11484797; https://ci.nii.ac.jp/ncid/AA11484797
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• 提供元機関・データベース: 愛知工業大学 : 愛知工業大学学術情報リポジトリ