Self-aligned patterning on β-Ga2O3 substrates via backside-exposure photolithography
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書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- Takayoshi Oshima
- 出版事項
- 出版年月日等
- 2023-01-18
- 出版年（W3CDTF）
- 2023-01-18
- タイトル（掲載誌）
- JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 62 1
- 掲載巻
- 62