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目次
39(7) 1970.07
- ラマンスペクトル強度の絶対測定(総合報告)
p.626~639
- スケーラ計測による演算システムの研究-1-演算用10進カウンタの構成
p.640~649
- 有機染料レーザーの出力波形解析
p.650~655
- ZnS蒸着膜の光電特性-2-D.C.E.L
p.656~661
- 干渉屈折計による熱線周囲温度分布の測定
p.662~665
39(2) 1970.02
- 磁性希薄合金の電気抵抗
p.102~113
- 気中ラドン濃度のフィルター法による測定
p.114~118
- 露点計鏡への水蒸気のmass transfer
p.119~126
- CdSe蒸着膜およびCdSe TFTの電気的特性
p.127~135
- 標準電圧,電流源とその使い方(技術ノート)
p.137~140
39(10) 1970.10
- 核融合反応研究の現況
p.951~960
- 銀蒸着薄膜における電気抵抗の経時変化
p.961~963
- ブリュースター窓を有するHe-Neレーザーの偏光状態 反射鏡異方性の影響
p.964~965
39(11) 1970.11
- 液体金属の最近の研究
p.1014~1027
- 急冷法で作った(Bi1-xSbx)2(Te1-ySey)3系の格子定数と密度
p.1028~1033
- 耐熱材料(技術ノート)
p.1035~1038
- 耐熱材料の非破壊試験 (耐熱材料(技術ノート))
p.1035
- Si2ON2耐熱材料 (耐熱材料(技術ノート))
p.1036
39(9) 1970.09
- 光学-37-(特集)
p.851~923
- 測光単位の絶対測定(総合報告) (光学-37-(特集))
p.852~860
- 沈殿法による銀粉の粒子径制御について (光学-37-(特集))
p.861~868
- 延伸高分子膜の曲げ圧電性 (光学-37-(特集))
p.869~874
39(4) 1970.04
- 点欠陥とその集合体のX線回折による検出
p.301~312
- 新しい超高出力X線回折法
p.313~319
- 三群四極子レンズの非対称動作特性
p.320~326
39(6) 1970.06
- 半導体における電子なだれ現象(総合報告)
p.508~519
- Pd-Ag厚膜抵抗体成製機構 焼結条件と電気的特性
p.520~526
- グロー放電により生成したSi酸化膜の電気的特性
p.527~534
- ツエルニー・ターナー配置分光器の収差
p.535~540
- Si-As-Te系ガラス半導体における光電流の照度依存性(寄書)
p.541~542
39(8) 1970.08
- 超高真空下のガス吸着現象(総合報告)
p.748~759
- 計量研究所の重力加速度絶対測定
p.760~779
- パルスおよびCW動作HCN遠赤外レーザーの出力特性
p.780~787
- Clean Surfaceの作り方(技術ノート)
p.791~794
39(3) 1970.03
- 光学-36-(特集)
p.194~279
- 回折格子製作技術の発展(総合報告) (光学-36-(特集))
p.194~204
- 3m斜入射真空単色計の製作 (光学-36-(特集))
p.213~220
- 厚膜用Pd-Ag焼結膜の反応と膜組成 (光学-36-(特集))
p.221~227
39(12) 1970.12
- 重荷電粒子に対する気体および固体の阻止能(総合報告)
p.1086~1100
- 雪氷の含水率の測定
p.1101~1105
- Si太陽電池の拡散層の放射線・機械的損傷
p.1106~1112
- 還元Pd粉末とその酸化物粒子の特徴
p.1113~1118
- イオン移動度測定装置の試作
p.1119~1126
39(5) 1970.05
- 電子写真粉体現像機構の一解析
p.406~412
- 延伸高分子膜の電歪と圧電
p.413~419
- 化合物(Bi1-xSbx)2(Te1-ySey)3の電気的特性-1-
p.420~426
- Half-tone plotterの試作
p.427~433