機械技術研究所報告(189)

• 資料種別: 雑誌
• ISSN: 0286-2255
• ISSN-L: 0286-2255
• タイトル: 機械技術研究所報告
• タイトルよみ: キカイ ギジュツ ケンキュウジョ ホウコク
• 巻次・部編番号: (189)
• 著者・編者: 産業技術総合研究所機械技術研究所 編
• 著者標目: 産業技術総合研究所機械技術研究所 サンギョウ ギジュツ ソウゴウ ケンキュウジョ キカイ ギジュツ ケンキュウジョ
• 出版事項: つくば : 産業技術総合研究所機械技術研究所
• 出版年月日等: 2000-12
• 出版年（W3CDTF）: 2000-12
• 刊行巻次・年月次: 74号 - 196号
• 大きさ: 30cm
• 並列タイトル等: Report of Mechanical Engineering Laboratory Report of Mechanical Engineering Laboratory
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• NDLC: ZN11
• 一般注記: 本タイトル等は最新号による; 並列タイトルの変更あり 74号から191号までの編者, 出版者: 工業技術院機械技術研究所 大きさの変更あり
• DOI: 10.11501/3230846; https://doi.org/10.11501/3230846
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/3230846; https://dl.ndl.go.jp/pid/3230846
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌; https://dl.ndl.go.jp/collections/A00002
• 製作者: 国立国会図書館
• 製作年（W3CDTF）: 2011-03-31
• 受理日（W3CDTF）: 2012-01-27T13:23:19+09:00
• 記録形式（IMT）: image/jp2
• オンライン閲覧公開範囲: 国立国会図書館内限定公開
• デジタル化資料送信: 図書館・個人送信対象
• 遠隔複写可否（NDL）: 可
• 所蔵巻次・年月次（所蔵事項）: 74号(昭46.11) - 196号(Jan. 2001)
• 請求記号: Z16-397
• 原資料（JPNO）: 00004588
• 掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/3381495; https://dl.ndl.go.jp/pid/3381495
• 改題前（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/2385792; https://dl.ndl.go.jp/pid/2385792
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

目次

表面活性化法によるシリコンウェハの常温接合

ABSTRACT

第1章 序論

第2章 従来の研究と本研究の課題

第3章 Siウェハの常温接合と表面活性化条件