真空 = Journal of the Vacuum Society of Japan

• 資料種別: 雑誌
• タイトル: 真空
• タイトルよみ: シンクウ
• 巻次・部編番号: 46(7)-46(12) 20030700-20031200(総目次46巻共)
• 著者標目: 日本真空協会 ニホン シンクウ キョウカイ ( 00294657 )典拠; 真空協会 シンクウ キョウカイ ( 00781289 )典拠
• 出版事項: 東京 : 日本真空協会
• 出版年月日等: 2003
• 出版年（W3CDTF）: 2003
• 出版表示等に関する注記: 1巻1号から14巻1号までの出版者: 真空協会
• 刊行巻次・年月次: 1巻1号 - 50巻12号(2007年12月)
• 大きさ: 30cm
• 並列タイトル等: Journal of the Vacuum Society of Japan Journal of the Vacuum Society of Japan; Journal of the Vacuum Society of Japan
• その他のタイトル: 真空技術 シンクウ ギジュツ
• ISSN（掲載誌）: 0559-8516
• ISSN-L（掲載誌）: 0559-8516
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn; eng
• NDLC: ZN15
• 一般注記: 本タイトル等は最新号による; 大きさの変更あり
• 改題等に関する注記: 合併前誌: 真空技術
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z16-474
• 改題前: 合併前; https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000011966
• 改題後: 継続後 : Journal of the Vacuum Society of Japan; https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R100000002-I000008601226
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000011964; http://id.ndl.go.jp/bib/000000011964
• 目録規則: 日本目録規則1987年版改訂版

目次

小特集 〔日本真空協会〕北陸研究例会

スパッタリング法の変遷 (小特集 〔日本真空協会〕北陸研究例会)

デュアルイオンビームスパッタ法を用いたAu超薄膜の作製とその紫外域透明電極への応用 (小特集 〔日本真空協会〕北陸研究例会)

製品紹介 透明導電性フィルム (小特集 〔日本真空協会〕北陸研究例会)

高密度磁気記録とナノテクノロジー

Gas-Desorption Properties of Inner Coating Materials Used for Cathode-Ray Tube--Effect of Water Glass Component of Inner Coating Material on Gas Desorption

触媒金属微粒子制御による垂直配向カーボンナノチューブ薄膜の作製

Cu-9%Al(111)合金上に成長したエピタキシャル酸化膜の表面形態と化学結合状態

電子放出特性その場解析装置の開発

TiN膜へのCl+イオン打ち込みによる低摩擦化のX線光電子分光法による研究

平成15年度日本真空協会賞の審査経過と受賞業績紹介

小特集 半導体ドライプロセスにおける地球温暖化対策

半導体産業におけるPerfluorocompounds(PFCs)等排出削減取組みについて (小特集 半導体ドライプロセスにおける地球温暖化対策)

プラズマ化学気相堆積法におけるクリーニング代替ガスと温室効果ガス排出量削減 (小特集 半導体ドライプロセスにおける地球温暖化対策)

Perfluorocompounds(PFCs)計測技術--半導体業界のPFCs削減活動における評価方法 (小特集 半導体ドライプロセスにおける地球温暖化対策)

小特集 薄膜形成における有機無機界面

高分子フィルム基板機能性薄膜の黎明期をかえりみて (小特集 薄膜形成における有機無機界面)

薄膜形成のための高分子の表面処理 (小特集 薄膜形成における有機無機界面)

高周波スパッタリングにより金属基板上に形成したポリテトラフルオロエチレン(PTFE)薄膜の機械的特性 (小特集 薄膜形成における有機無機界面)

異方的微細電極の作成とその電界発光素子への応用 (小特集 薄膜形成における有機無機界面)

Si(100)表面での水素反応--バリヤーパズルをめぐって (小特集「シリコン表面の水素の挙動」)

小特集「シリコン表面の水素の挙動」

シリコン表面の水素終端化に対する第一原理解析 (小特集「シリコン表面の水素の挙動」)

半導体表面における水素の挙動--赤外分光解析 (小特集「シリコン表面の水素の挙動」)

共鳴核反応法で見るSiO2/Si界面近傍の水素の挙動 (小特集「シリコン表面の水素の挙動」)

高分解能ラザフォード後方散乱法を用いた極浅ドーパントの深さプロファイル分析

極浅領域の深さ方向分析用多層BNデルタドープ標準物質とそれによるスパッタ速度変化の評価

弾性波デバイス開発の立場から見た圧電薄膜

水分子凝縮体からのイオン放出

Au基板上に堆積されたバナジルフタロシアニン薄膜の配向への基板予備加熱効果