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14(1) 1971.01
- 超電導送電
p.3~10
- 電離真空計の半導体化
p.18~23
14(10) 1971.10
- 分子線研究の実験技術
p.347~359
- 分子線による表面の研究
p.360~370
- 三硫化アンチモンの真空蒸着
p.371~378
14(11) 1971.11
- 真空中における摩擦と潤滑
p.382~395
- ガラス表面上の吸着水蒸気に関する研究
p.396~403
- 三硫化アンチモンのArガス中蒸着
p.404~413
14(12) 1971.12
- イオン源
p.418~422
- 気体の不純物の微量分析-1-
p.423~430
- 軌道型質量分析計の試作
p.431~435
14(2) 1971.02
- 軸流分子ポンプ-1-
p.33~41
- チップ製作法に関する一考案(寄書)
p.54~55
14(3) 1971.03
- 軸流分子ポンプ-2-
p.75~82
- 極低圧における混合気体の物理吸着
p.83~88
- 高温Wフィラメントと酸素の相互作用 測定系管壁の効果
p.89~93
- 表面清浄化処理用イオン銃
p.94~95
14(4) 1971.04
- 真空測定(特集)
p.111~147
- 残留ガス分析-1- (真空測定(特集))
p.111~122
- 高速電離真空計とその較正 (真空測定(特集))
p.123~131
- マグネトロン発振機構と放電真空計 (真空測定(特集))
p.132~139
- マスフィルタによる残留ガス分析 (真空測定(特集))
p.140~147
14(5) 1971.05
- 真空科学における放射性同位元素 133Xeおよび85Krの利用
p.155~245
- セラミック材料について
p.166~177
- 電子顕微鏡テレビ用シリコン・ターゲットの電子衝撃特性
p.178~183
14(6) 1971.06
- 薄膜装置(特集)
p.201~230
- 光学用蒸着装置の最近の傾向 (薄膜装置(特集))
p.201~210
- スパッタリング装置 (薄膜装置(特集))
p.211~223
- 真空スパッタリング用イオン源とその応用 (薄膜装置(特集))
p.224~230
14(8) 1971.08
- バルクゲッタポンプの特性
p.275~285
- 気体の不純物の微量分析-1-酸素
p.286~294
- 種々の前処理条件におけるステンレス鋼と軟鋼の放出ガス量
p.295~301
14(9) 1971.09
- ヒートパイプの動作特性
p.314~319
- チタニウムと酸素の高温低圧反応の速度論的研究
p.320~324
- 3電子銃付連続蒸着合成装置によるZr-N系抵抗体の作製
p.325~333
- Clausing係数について
p.336~337
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書誌情報
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- 資料種別
- 雑誌
- タイトル
- タイトルよみ
- シンクウ
- 巻次・部編番号
- 14(1)-14(12) 19710100-19711200
- 出版事項
- 出版年月日等
- 1971
- 出版年(W3CDTF)
- 1971
- 出版表示等に関する注記
- 1巻1号から14巻1号までの出版者: 真空協会
- 刊行巻次・年月次
- 1巻1号 - 50巻12号(2007年12月)
- 大きさ
- 30cm
- 並列タイトル等
- Journal of the Vacuum Society of Japan Journal of the Vacuum Society of JapanJournal of the Vacuum Society of Japan
- その他のタイトル
- 真空技術 シンクウ ギジュツ
- ISSN(掲載誌)
- 0559-8516
- ISSN-L(掲載誌)
- 0559-8516
- 出版地(国名コード)
- JP
- 本文の言語コード
- jpneng
- NDLC
- 一般注記
- 本タイトル等は最新号による大きさの変更あり
- 改題等に関する注記
- 合併前誌: 真空技術
- 所蔵機関
- 国立国会図書館
- 請求記号
- Z16-474
- 改題後
- 継続後 : Journal of the Vacuum Society of Japan
- 連携機関・データベース
- 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
- 書誌ID(NDLBibID)
- 000000011964
- 目録規則
- 日本目録規則1987年版改訂版