真空 = Journal of the Vacuum Society of Japan

• 資料種別: 雑誌
• タイトル: 真空
• タイトルよみ: シンクウ
• 巻次・部編番号: 19(1)-19(12) 19760100-19761200
• 著者標目: 日本真空協会 ニホン シンクウ キョウカイ ( 00294657 )典拠; 真空協会 シンクウ キョウカイ ( 00781289 )典拠
• 出版事項: 東京 : 日本真空協会
• 出版年月日等: 1976
• 出版年（W3CDTF）: 1976
• 出版表示等に関する注記: 1巻1号から14巻1号までの出版者: 真空協会
• 刊行巻次・年月次: 1巻1号 - 50巻12号(2007年12月)
• 大きさ: 30cm
• 並列タイトル等: Journal of the Vacuum Society of Japan Journal of the Vacuum Society of Japan; Journal of the Vacuum Society of Japan
• その他のタイトル: 真空技術 シンクウ ギジュツ
• ISSN（掲載誌）: 0559-8516
• ISSN-L（掲載誌）: 0559-8516
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn; eng
• NDLC: ZN15
• 一般注記: 本タイトル等は最新号による; 大きさの変更あり
• 改題等に関する注記: 合併前誌: 真空技術
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z16-474
• 改題前: 合併前 : 真空工業; https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000011966
• 改題後: 継続後 : Journal of the Vacuum Society of Japan; https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R100000002-I000008601226
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000011964; http://id.ndl.go.jp/bib/000000011964
• 目録規則: 日本目録規則1987年版改訂版

目次

化合物半導体表面デバイス

アモルファス半導体における電子ビーム照射効果--特に光学的性質について

大面積基板への酸化インジウム膜の蒸着

Au系共晶合金を用いた薄膜溶融接合について

高温低圧下における4-A族金属(Ti,Zr,Hf)の平衡水素溶解量

ガラス用大型半連続コーター

電界放出陰極のビルドアップに対する電界の影響

化合物半導体表面不活性化技術

第16回真空に関する連合講演会

RFスパッタリングによるSiO2の附着速度と真空系の質

MnAl6相を中心とするMn-Al同時蒸着膜の結晶化

耐熱性無機接着剤--スミセラム

オージェ電子分光法によるSi3N4膜中へのAlの拡散

IMAの日米セミナー

オージェ電子分光(AES)法による薄膜成長の観察--理論的考察

オージェおよびイオン化ロスピークを利用した蒸着膜成長モードの決定

Draft International Standard ISO/DIS3753--Graphical symbols for vacuum technology〔含 規格標準部会における審議経過〕

ターボ分子ポンプ系による超高真空の作成

非晶質蒸着膜の結晶化

RFスパッタガラス薄膜の膜厚監視

最近の金属加工・表面処理特集

真空や放電を用いた新しい表面硬化技術 (最近の金属加工・表面処理特集)

真空イオン浸炭法 (最近の金属加工・表面処理特集)

電子ビーム溶接の現状について (最近の金属加工・表面処理特集)

真空ろう付 (最近の金属加工・表面処理特集)

熱陰極電離真空計のX線限界改善法

ISO/DIS1607/2ロータリーポンプの到達圧力の測定法(資料)〔英文〕

研究室用NESA膜作成技術

Pb1-xSnxSe薄膜の光学的性質

イオン散乱法によるステンレス鋼表面の観察

稀薄銅合金酸化薄膜中の組成変化

大型スペースチェンバの真空排気系

IMAにおけるイオンモニタ法の開発とその応用

熱電離イオンエネルギー分布測定用の逆電位分析器とマスフィルターを組合せた装置について(速報)

イオンプレーティングの基礎特性と結晶成長

Rotary Type Flash MethodによるInSb薄膜の作成

真空計測用の遷移金属炭化物皮膜エミッタ

ISO/DIS2861/1・2カップリング(資料)

真空工業用としてのステンレス鋼

ジョゼフソン素子と電圧標準

昇温脱離装置の試作とその性能

GaP,GaAs1-xPxの分子線エピタキシャル成長

最近の薄膜技術<特集>

高速・低温スパッタリングとその電子デバイスへの応用 (最近の薄膜技術<特集>)

太陽エネルギー・コレクター (最近の薄膜技術<特集>)

シリコンデバイスの電極配線 (最近の薄膜技術<特集>)

イオンプレーティング法によるTiC被覆とその応用 (最近の薄膜技術<特集>)

実験用ガラス材料

電子ビーム蒸着法によるTiO2の性質

イオンプレーティング膜の膜厚測定に及ぼすホローカソード効果

Mn-Cu-Bi3元系磁気-光記憶用薄膜

真空総目次第19巻(1976年1月～12月)