真空 = Journal of the Vacuum Society of Japan

• 資料種別: 雑誌
• タイトル: 真空
• タイトルよみ: シンクウ
• 巻次・部編番号: 37巻11号 1994年11月
• 著者標目: 日本真空協会 ニホン シンクウ キョウカイ ( 00294657 )典拠; 真空協会 シンクウ キョウカイ ( 00781289 )典拠
• 出版事項: 東京 : 日本真空協会
• 出版年月日等: 1994
• 出版年（W3CDTF）: 1994
• 出版表示等に関する注記: 1巻1号から14巻1号までの出版者: 真空協会
• 刊行巻次・年月次: 1巻1号 - 50巻12号(2007年12月)
• 大きさ: 30cm
• 並列タイトル等: Journal of the Vacuum Society of Japan Journal of the Vacuum Society of Japan; Journal of the Vacuum Society of Japan
• その他のタイトル: 真空技術 シンクウ ギジュツ
• ISSN（掲載誌）: 0559-8516
• ISSN-L（掲載誌）: 0559-8516
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn; eng
• NDLC: ZN15
• 一般注記: 本タイトル等は最新号による; 大きさの変更あり
• 改題等に関する注記: 合併前誌: 真空技術
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z16-474
• 改題前: 合併前 : 真空工業; https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000011966
• 改題後: 継続後 : Journal of the Vacuum Society of Japan; https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R100000002-I000008601226
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000011964; http://id.ndl.go.jp/bib/000000011964
• 目録規則: 日本目録規則1987年版改訂版

目次

Bi系酸化物高温超伝導バルク単結晶表面上への金属および絶縁薄膜の成長

ICBによるエピタキシャルAl/Al2O3積層構造の形成と応用

Si(100)2×1表面上のPd初期吸着過程

極薄い保護酸化膜を有した高濃度リンドープシリコンの昇温清浄化過程

InAsヘテロ接合のMBE成長とデバイス応用