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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
巻頭言--技術のより一層の活用を
p1~1
- 高分子の劣化
p2~11
- 延伸フィルムについて 延伸成型法を中心に
p12~24
技術の小箱
p25~25
- スチレンの重合反応について-上-
p26~33
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- プレーンテキスト
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書誌情報
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- 資料種別
- 雑誌
- タイトル
- タイトルよみ
- セキスイ ギホウ
- 巻次・部編番号
- 3(2)
- 著者標目
- 積水化学工業株式会社 セキスイ カガク コウギョウ カブシキ ガイシャ ( 00639100 )典拠
- 出版年月日等
- 1966-05
- 出版年(W3CDTF)
- 1966-05
- 刊行巻次・年月次
- 1巻1号-3巻3号
- 大きさ
- 26cm