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日本酸素技報 (4)

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日本酸素技報(4)

国立国会図書館請求記号
Z17-1192
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/3328265
資料種別
雑誌
出版者
日本酸素技術本部「日本酸素技報」編集事務局
出版年
1985-12
刊行頻度
-
資料形態
デジタル
ページ数・大きさ等
30cm
NDC
-
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資料に関する注記

所蔵巻次等:

No.1(1982)-no.22(2003)

刊行巻次:

No.1(1982)-no.22(2003)

一般注記:

本タイトル等は最新号による出版地の変更あり

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目次

  • 巻頭言

  • セミコンジャパン講演 フラーハティ氏

    Dr. E.T.FLAHERTY

    p2~4

  • 1. 技術報告

    p5~50

  • 1. 縦形常圧式反応管内の流れとMOCVD法GaAs成長の関係

    松本功 ; 伊東和彦 ; 角田龍爾

    p5~12

  • 2. ポリ塩化ビフェニールの酸素焼却処理

    平野尭 ; 今吉照一 ; 桜井澄雄

    p13~21

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書誌情報

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デジタル

資料種別
雑誌
ISSN
0914-8280
ISSN-L
0914-8280
タイトル
タイトルよみ
ニホン サンソ ギホウ
巻次・部編番号
(4)
著者標目
日本酸素株式会社 ニホン サンソ カブシキ ガイシャ ( 00294519 )典拠
出版年月日等
1985-12
出版年(W3CDTF)
1985-12