日本酸素技報(15)

• 資料種別: 雑誌
• ISSN: 0914-8280
• ISSN-L: 0914-8280
• タイトル: 日本酸素技報
• タイトルよみ: ニホン サンソ ギホウ
• 巻次・部編番号: (15)
• 著者標目: 日本酸素株式会社 ニホン サンソ カブシキ ガイシャ ( 00294519 )典拠
• 出版事項: 川崎 : 日本酸素技術本部「日本酸素技報」編集事務局
• 出版年月日等: 1996-11
• 出版年（W3CDTF）: 1996-11
• 刊行巻次・年月次: No.1(1982)-no.22(2003)
• 大きさ: 30cm
• 並列タイトル等: Nippon Sanso engineering report
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• NDLC: ZP8
• 一般注記: 本タイトル等は最新号による; 出版地の変更あり
• DOI: 10.11501/3328276; https://doi.org/10.11501/3328276
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/3328276; https://dl.ndl.go.jp/pid/3328276
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌; https://dl.ndl.go.jp/collections/A00002
• 製作者: 国立国会図書館
• 製作年（W3CDTF）: 2011-03-31
• 受理日（W3CDTF）: 2012-01-30T11:15:16+09:00
• 記録形式（IMT）: image/jp2
• オンライン閲覧公開範囲: 国立国会図書館内限定公開
• デジタル化資料送信: 図書館・個人送信対象
• 遠隔複写可否（NDL）: 可
• 所蔵巻次・年月次（所蔵事項）: No.1(1982)-no.22(2003)
• 請求記号: Z17-1192
• 原資料（JPNO）: 00070697
• 掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/3380882; https://dl.ndl.go.jp/pid/3380882
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

目次

巻頭言 技術は企業の顔

総説 日本酸素における酸素燃焼技術開発の歴史

HGlレーザー分光計用1.74μm分布帰還型半導体レーザー(DFB-LASER)の開発

量産型MOCVD装置によるIII-V族化合物半導体薄膜の作製

加熱再生吸着プロセスのシミュレーション