Japanese journal of applied physics17(6);JUNE 1978

• 資料種別: 雑誌
• タイトル: Japanese journal of applied physics
• 巻次・部編番号: 17(6);JUNE 1978
• 出版事項: Tokyo : Publication Office, Japanese Journal of Applied Physics, Faculty of Science, University of Tokyo
• 出版年月日等: 1978-06
• 出版年（W3CDTF）: 1978-06
• 刊行巻次・年月次: 1(1):1962.7 - 20(12):1981.12
• 大きさ: 30 cm
• ISSN（掲載誌）: 0021-4922
• ISSN-L（掲載誌）: 0021-4922
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng; fre; ger
• NDLC: ZM35
• 一般注記: Description based on the latest issue; With: Index ; Suppl
• 総目次・総索引注記: 総目次・総索引あり
• DOI: 10.11501/11196020; https://doi.org/10.11501/11196020
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/11196020; https://dl.ndl.go.jp/pid/11196020
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌; https://dl.ndl.go.jp/collections/A00002
• 製作者: 国立国会図書館
• 製作年（W3CDTF）: 2019-03-15
• 受理日（W3CDTF）: 2018-12-04T13:52:55+09:00
• 記録形式（IMT）: image/jp2
• オンライン閲覧公開範囲: 国立国会図書館内限定公開
• デジタル化資料送信: 図書館・個人送信対象
• 遠隔複写可否（NDL）: 可
• 所蔵巻次・年月次（所蔵事項）: 1(1):1962.7 - 20(12):1981.12
• 請求記号: Z53-A375
• 原資料（JPNO）: 10010781
• 掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/11196682; https://dl.ndl.go.jp/pid/11196682
• 改題後（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/11196685; https://dl.ndl.go.jp/pid/11196685; info:ndljp/pid/11226428; https://dl.ndl.go.jp/pid/11226428; info:ndljp/pid/11399507; https://dl.ndl.go.jp/pid/11399507
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

目次

CONTENTS/

Formation of He₂ Molecules in the Early Afterglow of He Pulsed Discharge/Yoshio MATSUURA ; Kuniya FUKUDA/977～

Localized States in Amorphous and Polycrystallized Si/Toshio NAKASHITA ; Masataka HIROSE ; Yukio OSAKA/985～

X-Ray Diffraction Topographic Studies of Antarctic Deep Core Ice/Hitoshi SHOJI ; Akira HIGASHI/993～

Annealing Behaviour of Stress in Sb-Implanted Si/Nobuo ITOH ; Tanehiro NAKAU ; Yasumitsu MORIKAWA ; Kouichi NAGAMI/1003～