巻号19;NOVEMBER 1997

Proceedings of Symposium on Dry Process 19;NOVEMBER 1997

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Proceedings of Symposium on Dry Process19;NOVEMBER 1997

国立国会図書館請求記号
Z63-B381
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/11019431
資料種別
雑誌
出版者
Institute of Electrical Engineers of Japan
出版年
1997-11
刊行頻度
-
資料形態
デジタル
ページ数・大きさ等
28 cm
NDC
-
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資料に関する注記

所蔵巻次等:

7:1985 - 22:2000

刊行巻次:

[ ] - 22:2000

一般注記:

Description based on the latest issueTitle in Japanese: Dorai Purosesu Sinpozyumu

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目次

  • THE 19th SYMPOSIUM ON DRY PROCESS PROGRAM = 第19回ドライプロセスシンポジウム プログラム//7~14

  • Wednesday, November 12, 1997 = 11月12日(水)//~234

  • Session I Charging = Session I チャージング-Charging//~26

  • I-1 <Invited Talk> The Role of Electron Tunneling in Pattern-Dependent Charging/Gyeong S. Hwang ; Konstantinos P. Giapis/1~8

  • I-2 Influence of Pulsed ECR Plasma on Gate Electrode Etching = I-2 ゲート電極エッチングにおけるパルスECRプラズマの効果/Nobuo Fujiwara ; Takahiro Maruyama ; Hiroshi Miyatake/9~14

書誌情報

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デジタル

資料種別
雑誌
巻次・部編番号
19;NOVEMBER 1997
出版年月日等
1997-11
出版年(W3CDTF)
1997-11
刊行巻次・年月次
[ ] - 22:2000
大きさ
28 cm
並列タイトル等
Dorai Purosesu Sinpozyumu
出版地(国名コード)
JP