Proceedings of Symposium on Dry Process20;NOVEMBER 1998

• 資料種別: 雑誌
• タイトル: Proceedings of Symposium on Dry Process
• 巻次・部編番号: 20;NOVEMBER 1998
• 出版事項: Tokyo : Institute of Electrical Engineers of Japan
• 出版年月日等: 1998-11
• 出版年（W3CDTF）: 1998-11
• 刊行巻次・年月次: [ ] - 22:2000
• 大きさ: 28 cm
• 並列タイトル等: Dorai Purosesu Sinpozyumu
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: ZM5; ZN31
• 一般注記: Description based on the latest issue; Title in Japanese: Dorai Purosesu Sinpozyumu
• DOI: 10.11501/11019432; https://doi.org/10.11501/11019432
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/11019432; https://dl.ndl.go.jp/pid/11019432
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌; https://dl.ndl.go.jp/collections/A00002
• 製作者: 国立国会図書館
• 製作年（W3CDTF）: 2018-03-09
• 受理日（W3CDTF）: 2018-01-15T18:38:15+09:00
• 記録形式（IMT）: image/jp2
• オンライン閲覧公開範囲: 国立国会図書館内限定公開
• デジタル化資料送信: 図書館・個人送信対象
• 遠隔複写可否（NDL）: 可
• 所蔵巻次・年月次（所蔵事項）: 7:1985 - 22:2000
• 請求記号: Z63-B381
• 原資料（JPNO）: 10041216
• 掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/10997448; https://dl.ndl.go.jp/pid/10997448
• 改題後（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/10997441; https://dl.ndl.go.jp/pid/10997441
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

目次

THE 20th SYMPOSIUM ON DRY PROCESS PROGRAM = 第20回ドライプロセスシンポジウム プログラム//7～13

Wednesday, November 11, 1998 = 11月11日（水）//～78

Session I Plenary Talk = Session I 基調講演 -Plenary Talk//～16

I-1 <Invited Talk> Surface-Catalysed Atom-Atom Recombination/J. W. Coburn ; Gowri P. Kota ; David B. Graves/1～8

I-2 <Invited Talk> High Aspect Ratio SiO₂ Etching Employing Fluorocarbon Substituting Gases = I-2 <Invited Talk> 代替フロロカーボンガスを用いた高アスペクト比SiO₂孔エッチング/Yannick Feurprier ; Makoto Ogata ; Masanori Ozawa ; Toshiaki Kikuchi ; Yasuhiko Chinzei ; Haruo Shindo ; Takanori Ichiki ; Yasuhiro Horiike/9～16