Proceedings of Symposium on Dry Process1999・11

• 資料種別: 雑誌
• タイトル: Proceedings of Symposium on Dry Process
• 巻次・部編番号: 1999・11
• 出版事項: Tokyo : Institute of Electrical Engineers of Japan
• 出版年月日等: 1999-11
• 出版年（W3CDTF）: 1999-11
• 刊行巻次・年月次: [ ] - 22:2000
• 大きさ: 28 cm
• 並列タイトル等: Dorai Purosesu Sinpozyumu
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: ZM5; ZN31
• 一般注記: Description based on the latest issue; Title in Japanese: Dorai Purosesu Sinpozyumu
• DOI: 10.11501/11019433; https://doi.org/10.11501/11019433
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/11019433; https://dl.ndl.go.jp/pid/11019433
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌; https://dl.ndl.go.jp/collections/A00002
• 製作者: 国立国会図書館
• 製作年（W3CDTF）: 2018-03-09
• 受理日（W3CDTF）: 2018-01-15T18:38:15+09:00
• 記録形式（IMT）: image/jp2
• オンライン閲覧公開範囲: 国立国会図書館内限定公開
• デジタル化資料送信: 図書館・個人送信対象
• 遠隔複写可否（NDL）: 可
• 所蔵巻次・年月次（所蔵事項）: 7:1985 - 22:2000
• 請求記号: Z63-B381
• 原資料（JPNO）: 10041216
• 掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/10997448; https://dl.ndl.go.jp/pid/10997448
• 改題後（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/10997441; https://dl.ndl.go.jp/pid/10997441
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

• DOI: 10.11501/11019433; https://doi.org/10.11501/11019433
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/11019433; https://dl.ndl.go.jp/pid/11019433
• コレクション（共通）: 障害者向け資料
• コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
• コレクション（障害者向け資料：レベル2）: プレーンテキスト
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌; https://dl.ndl.go.jp/collections/A00002
• 製作者: 国立国会図書館
• 製作年（W3CDTF）: 2018-03-09
• 受理日（W3CDTF）: 2018-01-15T18:38:15+09:00
• 記録形式（IMT）: image/jp2
• オンライン閲覧公開範囲: 国立国会図書館内限定公開
• デジタル化資料送信: 図書館・個人送信対象
• 遠隔複写可否（NDL）: 可
• 所蔵巻次・年月次（所蔵事項）: 7:1985 - 22:2000
• 請求記号: Z63-B381
• 原資料（JPNO）: 10041216
• 掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/10997448; https://dl.ndl.go.jp/pid/10997448
• 改題後（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/10997441; https://dl.ndl.go.jp/pid/10997441
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

目次

The 21st SYMPOSIUM ON DRY PROCESS PROGRAM = 第21回ドライプロセスシンポジウム プログラム//9～16

Thursday, November 11, 1999 = 11月11日（木）//～214

Session I SiO₂ Etching (I) = Session I SiO₂エッチング (I)//～62

I-1 <Invited Talk> Computational Studies of Electron-Impact Dissociation of Gases in Plasma Processing/Carl L. Winstead ; Chuo-Han Lee ; B. Vincent McKoy/1～7

I-2 Spatial Distribution Measurement of Absolute CFₓ Radical Densities in Plasma Using Novel System of Single-Path IRLAS Combined with LIF on the Identical Beam Path = I-2 同一光路型シングルパス赤外半導体レーザ吸収分光法・レーザ誘起蛍光システムを用いたプラズマ中のCFₓラジカル絶対密度空間分布測定/Masayuki Nakamura ; Masafumi Ito ; Masaru Hori ; Toshio Goto ; Nobuo Ishii/9～14