MOCVD法による磁性および誘電性セラミックス薄膜の合成と性質に関する研究

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: MOCVD法による磁性および誘電性セラミックス薄膜の合成と性質に関する研究
• タイトルよみ: MOCVDホウ ニ ヨル ジセイ オヨビ ユウデンセイ セラミックス ハクマク ノ ゴウセイ ト セイシツ ニ カンスル ケンキュウ
• 著者・編者: 舟窪浩 [著]
• 著者標目: 舟窪, 浩 フナクボ, ヒロシ
• 授与機関名: 東京工業大学
• 授与年月日: 平成5年2月28日
• 授与年月日（W3CDTF）: 1993
• 報告番号: 乙第2435号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-93-L352
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000261414; http://id.ndl.go.jp/bib/000000261414
• 整理区分コード: 213

目次

論文目録

目次

第1章 緒言

1-1 本研究の目的と研究計画

1-2 研究の背景