非線形反応拡散方程式による直線状界面の解析

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: 非線形反応拡散方程式による直線状界面の解析
• タイトルよみ: ヒセンケイ ハンノウ カクサン ホウテイシキ ニ ヨル チョクセンジョウ カイメン ノ カイセキ
• 著者・編者: 谷口雅冶 [著]
• 著者標目: 谷口, 雅冶 タニグチ, マサハル
• 授与機関名: 東京大学
• 授与年月日: 平成5年9月30日
• 授与年月日（W3CDTF）: 1993
• 報告番号: 甲第10262号
• 学位: 博士 (数理科学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-95-H70
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000283221; http://id.ndl.go.jp/bib/000000283221
• 整理区分コード: 213

目次

Table of Contents (主論文)

Part I:Instability of planar interfaces in reaction diffusion systems (a joint work with Y.Nishiura)

Part II:Bifurcation from flat-layered solutions in reaction diffusion systems in two space dimensions