反応性イオンエッチング特性に及ぼす装置構造とエッチングパラメータの影響

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: 反応性イオンエッチング特性に及ぼす装置構造とエッチングパラメータの影響
• タイトルよみ: ハンノウセイ イオン エッチング トクセイ ニ オヨボス ソウチ コウゾウ ト エッチング パラメータ ノ エイキョウ
• 著者・編者: 塚田勉 [著]
• 著者標目: 塚田, 勉 ツカダ, ツトム
• 授与機関名: 東京大学
• 授与年月日: 平成5年12月9日
• 授与年月日（W3CDTF）: 1993
• 報告番号: 乙第11521号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-95-J315
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000284015; http://id.ndl.go.jp/bib/000000284015
• 整理区分コード: 213

目次

<目次>

第1章 序論

第2章 RIEの原理とプロセスの概要

2.1 RIEの原理

2.2 RIE装置の概要