Fabrication of high quality amorphous semiconductor films by controlling the surface reactions

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Fabrication of high quality amorphous semiconductor films by controlling the surface reactions
• 著者・編者: 角谷正友 [著]
• 著者標目: 角谷, 正友 スミヤ, マサトモ
• 並列タイトル等: 表面反応制御による高品質非晶質薄膜の作製 ヒョウメン ハンノウ セイギョ ニ ヨル コウヒンシツ ヒショウシツ ハクマク ノ サクセイ
• 授与機関名: 東京工業大学
• 授与年月日: 平成7年3月26日
• 授与年月日（W3CDTF）: 1995
• 報告番号: 甲第3025号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-95-T452
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000288976; http://id.ndl.go.jp/bib/000000288976
• 整理区分コード: 213

目次

論文目録

CONTENTS

Preface

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Chapter1