スパッタリング法によるBi系高温超伝導酸化物のエピタキシャル成長に関する研究

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: スパッタリング法によるBi系高温超伝導酸化物のエピタキシャル成長に関する研究
• タイトルよみ: スパッタリングホウ ニ ヨル Biケイ コウオン チョウデンドウ サンカブツ ノ エピタキシャル セイチョウ ニ カンスル ケンキュウ
• 著者・編者: 毛利存 [著]
• 著者標目: 毛利, 存 モウリ, ゾン
• 授与機関名: 大阪大学
• 授与年月日: 平成8年3月25日
• 授与年月日（W3CDTF）: 1996
• 報告番号: 甲第5580号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-96-E183
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000294786; http://id.ndl.go.jp/bib/000000294786
• 整理区分コード: 213

目次

目次

第1章 序論

1-1.本研究の背景

1-2.本研究の目的

1-3.本論文の構成