フッ酸処理シリコン基板上へのシリコン低温エピタキシャル成長に関する研究
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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
論文目録
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p1
第1章 序論
p1
1.1 緒言
p1
1.2 低温エピ成長技術の必要性
p1
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- タイトルよみ
- フッサン ショリ シリコン キバンジョウ エ ノ シリコン テイオン エピタキシャル セイチョウ ニ カンスル ケンキュウ
- 著者・編者
- 宮内昭浩 [著]
- 著者標目
- 宮内, 昭浩 ミヤウチ, アキヒロ
- 授与機関名
- 東京工業大学
- 授与年月日
- 平成7年10月31日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1995
- 報告番号
- 乙第2814号
- 学位
- 博士 (工学)