3-アミノプロピルトリエトキシシラン修飾シリカゲルの表面構造に関する研究
図書館・個人送信サービスを利用する
国立国会図書館デジタルコレクション
国立国会図書館の登録利用者(本登録)の方を対象とした、個人送信サービスで閲覧可能です。ただし、日本国外に居住している場合は、個人送信サービスを利用できません。
利用者登録する >
ログインする >
資料に関する注記
一般注記:
目次
p1
第1章 序論
参考文献
p5
第2章 元素分析法および拡散反射FTIR法による3-アミノプロピルトリエトキシシラン(APTS)-シリカゲル反応の速度論解析
p7
2-1.緒言
みなサーチに登録・ログインで利用できます
この資料の詳細や典拠(同じ主題の資料を指すキーワード、著者名)等を確認できます。