大気圧非平衡プラズマの基礎特性と薄膜形成プロセスへの応用に関する研究
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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
論文目録
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p1
第1章 緒論
p1
1.1 本研究の背景
p1
1.2 従来のULSI用シリコン酸化膜形成技術
p3
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- タイトルよみ
- タイキアツ ヒヘイコウ プラズマ ノ キソ トクセイ ト ハクマク ケイセイ プロセス エノ オウヨウ ニ カンスル ケンキュウ
- 著者・編者
- 石丸和博 [著]
- 著者標目
- 石丸, 和博 イシマル, カズヒロ
- 出版事項
- 出版年月日等
- [1999]
- 出版年（W3CDTF）
- 1999
- 数量
- 1冊
- 授与機関名
- 東京工業大学