Proceedings of International Symposium on Dry Process2;2002

• 資料種別: 雑誌
• タイトル: Proceedings of International Symposium on Dry Process
• 巻次・部編番号: 2;2002
• 著者標目: 応用物理学会 オウヨウ ブツリ ガッカイ ( 00281497 )典拠; 電気学会 デンキ ガッカイ ( 00259505 )典拠
• 出版事項: [Tokyo] : Japan Society of Applied Physics
• 出版年月日等: 2002
• 出版年（W3CDTF）: 2002
• 出版表示等に関する注記: Publisher: Institute of Electrical Engineers of Japan (1st-<6th>)
• 刊行巻次・年月次: 1st (2001)-
• 大きさ: 26-30cm
• 並列タイトル等: DPS
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: ZM5; ZN31
• 一般注記: Description based on the latest issue
• DOI: 10.11501/10995812; https://doi.org/10.11501/10995812
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/10995812; https://dl.ndl.go.jp/pid/10995812
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌; https://dl.ndl.go.jp/collections/A00002
• 製作者: 国立国会図書館
• 製作年（W3CDTF）: 2018-03-09
• 受理日（W3CDTF）: 2017-12-05T13:27:48+09:00
• 記録形式（IMT）: image/jp2
• オンライン閲覧公開範囲: 国立国会図書館内限定公開
• デジタル化資料送信: 図書館・個人送信対象
• 遠隔複写可否（NDL）: 可
• 所蔵巻次・年月次（所蔵事項）: 1st (2001)-6th (2006), 30th (2008)-
• 請求記号: Z63-B381
• 原資料（JPNO）: 10057518
• 掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/10997441; https://dl.ndl.go.jp/pid/10997441
• 改題前（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/10997448; https://dl.ndl.go.jp/pid/10997448
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

目次

2002 INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON DRY PROCESS PROGRAM//1～6

Thursday, Octomber 10, 2002//～92

Session I Low-k／Cu//～44

I-1 <Invited Talk> Porous Low-k／Copper Integration/Takeshi Nogami ; Shingo Takahashi ; Kaori Tai ; Hiizu Ohtorii ; Naoki Komai ; Hiroshi Horikoshi ; Shuzo Sato ; Zenya Yasuda/1～8

I-2 Effect of Film Composition on SiOCH Etching/T. Tatsumi ; K. Nagahata ; K. Urata ; T. Saito ; M. Minami ; Y. Nogami ; S. Iseda ; Y. Morita/9～14