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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
2004 International Symposium on Dry Process Program//7~16
Tuesday, November 30, 2004//~251
Session 1 LER/Resisit Damage//~28
1-01 <Invited talk> Transfer of Line Edge Roughness during Gate Patterning processes/L. H. A. Leunissen ; M. Ercken ; M. Goethals ; S. Locorotondo ; K. Ronse ; G. B. Derksen ; D. Nijkerk ; G. F. Lorusso/1~6
1-02 Reduction Technique of Line-Edge Roughness Independent of CD Shift in Gate-Etching Process/Masaru Kurihara ; Masaru Izawa/7~12
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書誌情報
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- 資料種別
- 雑誌
- 巻次・部編番号
- 4;2004
- 出版年月日等
- 2004
- 出版年(W3CDTF)
- 2004
- 出版表示等に関する注記
- Publisher: Institute of Electrical Engineers of Japan (1st-<6th>)
- 刊行巻次・年月次
- 1st (2001)-
- 大きさ
- 26-30cm