高性能LSIを実現するための多層配線技術に関する研究

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: 高性能LSIを実現するための多層配線技術に関する研究
• タイトルよみ: コウセイノウ LSI オ ジツゲンスル タメ ノ タソウ ハイセン ギジュツ ニ カンスル ケンキュウ
• 著者・編者: 工藤寛 [著]
• 著者標目: 工藤, 寛 クドウ, ヒロシ
• 出版事項: [工藤寛]
• 出版年月日等: [2000]
• 出版年（W3CDTF）: 2000
• 数量: 1冊
• 授与機関名: 東京工業大学
• 授与年月日: 平成12年4月30日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2000
• 報告番号: 乙第3435号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2001-S354
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000415835; http://id.ndl.go.jp/bib/000000415835
• 整理区分コード: 213

目次

論文目録

目次

第1章 LSI性能から見た低誘電率絶縁材料とCu配線の必要性

1-1.配線の種類と役割

1-2.信号伝播遅延