本文に飛ぶ
図書

LSI製造におけるプロセス高性能化技術 4 (クリーンルーム付帯設備の高度化) (Ultra clean technology)

図書を表すアイコン
表紙は所蔵館によって異なることがあります ヘルプページへのリンク

LSI製造におけるプロセス高性能化技術. 4 (クリーンルーム付帯設備の高度化)(Ultra clean technology)

国立国会図書館請求記号
ND386-E105
国立国会図書館書誌ID
000002057887
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/13649519
資料種別
図書
著者
半導体基盤技術研究会 編
出版者
リアライズ社
出版年
1990.2
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
295p ; 27cm
NDC
549.7
すべて見る

資料に関する注記

一般注記:

監修: 大見忠弘, 新田雄久

書店で探す

全国の図書館の所蔵

国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。

所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください

関東

書誌情報

この資料の詳細や典拠(同じ主題の資料を指すキーワード、著者名)等を確認できます。

デジタル

資料種別
図書
タイトルよみ
エルエスアイ セイゾウ ニ オケル プロセス コウセイノウカ ギジュツ
巻次・部編番号
4 (クリーンルーム付帯設備の高度化)
著者・編者
半導体基盤技術研究会 編
シリーズタイトル
著者標目
半導体基盤技術研究会 ハンドウタイ キバン ギジュツ ケンキュウカイ ( 00264648 )典拠
出版年月日等
1990.2
出版年(W3CDTF)
1990