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サブミクロンULSIプロセス技術 2 (Ultra clean technology)

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サブミクロンULSIプロセス技術. 2(Ultra clean technology)

国立国会図書館請求記号
ND386-E106
国立国会図書館書誌ID
000002057889
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/13649518
資料種別
図書
著者
半導体基盤技術研究会 編
出版者
リアライズ社
出版年
1989.11
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
284p ; 27cm
NDC
549.7
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資料に関する注記

一般注記:

監修: 大見忠弘, 新田雄久

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書誌情報

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デジタル

資料種別
図書
タイトルよみ
サブミクロン ユーエルエスアイ プロセス ギジュツ
巻次・部編番号
2
著者・編者
半導体基盤技術研究会 編
シリーズタイトル
著者標目
半導体基盤技術研究会 ハンドウタイ キバン ギジュツ ケンキュウカイ ( 00264648 )典拠
出版年月日等
1989.11
出版年(W3CDTF)
1989