半導体プロセスを高性能化する評価・分析技術 : Proceeding 3 (超LSIウルトラクリーンテクノロジーシンポジウム ; 第19回)

半導体プロセスを高性能化する評価・分析技術 : Proceeding. 3

(超LSIウルトラクリーンテクノロジーシンポジウム ; 第19回)

資料に関する注記

一般注記：: 英語書名: Analytical technologies for high performance LSI process 3 英文併記期日・会場: 1993年7月23日・24日機械振興会館ホール

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関東

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資料種別: 図書
タイトル: 半導体プロセスを高性能化する評価・分析技術 : Proceeding
タイトルよみ: ハンドウタイプロセスオコウセイノウカスルヒョウカブンセキギジュツ
巻次・部編番号: 3
著者・編者: UCS半導体基盤技術研究会編
シリーズタイトル: 超LSIウルトラクリーンテクノロジーシンポジウム ; 第19回
著者標目: 半導体基盤技術研究会ハンドウタイキバンギジュツケンキュウカイ ( 00264648 )典拠
出版事項: 東京 : UCS半導体基盤技術研究会
出版年月日等: 1993.7
出版年（W3CDTF）: 1993
数量: 178p
大きさ: 30cm
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: jpn
件名標目: 半導体ハンドウタイ ( 00562913 )典拠
NDC8版: 549.8
NDLC: ND371
対象利用者: 一般
一般注記: 英語書名: Analytical technologies for high performance LSI process 3 英文併記
期日・会場: 1993年7月23日・24日機械振興会館ホール
書誌注記: 付: Reference
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: ND371-E153
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000002272851
http://id.ndl.go.jp/bib/000002272851
全国書誌番号: 93065923
目録規則: 日本目録規則新版予備版
整理区分コード: 111