本文に飛ぶ
図書

Advanced dry chemical processing : Proceeding 1 (超LSIウルトラクリーンテクノロジーワークショップ ; 第12回)

図書を表すアイコン
表紙は所蔵館によって異なることがあります ヘルプページへのリンク

Advanced dry chemical processing : Proceeding. 1(超LSIウルトラクリーンテクノロジーワークショップ ; 第12回)

国立国会図書館請求記号
ND371-E151
国立国会図書館書誌ID
000002272854
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/13649474
資料種別
図書
著者
UCS半導体基盤技術研究会 編
出版者
UCS半導体基盤技術研究会
出版年
1991.6
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
103p ; 30cm
NDC
549.8
すべて見る

資料に関する注記

一般注記:

日英両文併記期日・会場: 1991年6月7日 全電通ホール

書店で探す

障害者向け資料で読む

全国の図書館の所蔵

国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。

所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください

関東

書誌情報

この資料の詳細や典拠(同じ主題の資料を指すキーワード、著者名)等を確認できます。

デジタル

資料種別
図書
巻次・部編番号
1
著者・編者
UCS半導体基盤技術研究会 編
著者標目
半導体基盤技術研究会 ハンドウタイ キバン ギジュツ ケンキュウカイ ( 00264648 )典拠
出版年月日等
1991.6
出版年(W3CDTF)
1991
数量
103p