極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性 : 薄膜・表面物理分科会主催特別研究会研究報告 : 第4回研究会

• 資料種別: 図書
• タイトル: 極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性 : 薄膜・表面物理分科会主催特別研究会研究報告 : 第4回研究会
• タイトルよみ: ゴクウス シリコン サンカマク ノ ケイセイ ヒョウカ シンライセイ : ハクマク ヒョウメン ブツリ ブンカカイ シュサイ トクベツ ケンキュウカイ ケンキュウ ホウコク : ダイ 4カイ ケンキュウカイ
• 著者・編者: 応用物理学会薄膜・表面物理分科会 編
• シリーズタイトル: AP ; 992204
• 著者標目: 応用物理学会 オウヨウ ブツリ ガッカイ ( 00281497 )典拠
• 出版事項: 東京 : 応用物理学会薄膜・表面物理分科会
• 出版年月日等: 1999.1
• 出版年（W3CDTF）: 1999
• 数量: 366p
• 大きさ: 26cm
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: シリコン (半導体)--会議録 シリコン (ハンドウタイ) カイギロク ( 00580099 )典拠; 薄膜--会議録 ハクマク カイギロク ( 00610990 )典拠
• NDC9版: 549.8 : 電子工学
• NDLC: ND371
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 会期・会場: 1999年1月22日-23日 NTT御殿場研修センター
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: ND371-G107
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000002762189; http://id.ndl.go.jp/bib/000002762189
• 全国書誌番号: 99089294
• 目録規則: 日本目録規則1987年版改訂版
• 整理区分コード: 111

目次

応用物理学会薄膜・表面物理分科会主催

特別研究会「極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性」

第4回研究会研究報告目次

1．Technology and reliability of subー3nm oxides/ 1ー6

⊂M．M．Heyns⊂T．Nigam⊂R．Degraeve⊂P．W．Mertens⊂M．Schaekers⊂S．De Cendt⊂G．Groeseneken⊂H．Maes⊂M．Houssa⊂N．Vandewalle and ⊂M．Ausloos（IMEC，University of Liege）