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セラミックス薄膜研究報告書 1

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セラミックス薄膜研究報告書. 1

国立国会図書館請求記号
ND371-G144
国立国会図書館書誌ID
000002886794
資料種別
図書
著者
関西大学工業技術研究所
出版者
関西大学工業技術研究所
出版年
2000.3
資料形態
ページ数・大きさ等
42p ; 30cm
NDC
549.8
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目次

1
  • はしがき

    北嶋弘一(研究代表者)

  • TiAINコーティングエンドミルにおける冷風切削特性について/ 1ー18

    北嶋弘一||宮崎剛治

  • イオンビームアシスト法によるチタンオキサイド薄膜の誘電率/ 19ー30

    横田勝弘||中村和広||笹川知宏||鎌谷俊彦

  • 貴金属ナノ粒子を含有するFe2TiO5薄膜の作製と光陽極特性/ 31ー42

    幸塚広光||池田勝彦||辰巳正和

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
セラミックス ハクマク ケンキュウ ホウコクショ
巻次・部編番号
1
著者標目
関西大学工業技術研究所 カンサイ ダイガク コウギョウ ギジュツ ケンキュウジョ ( 00286328 )典拠
出版年月日等
2000.3
出版年(W3CDTF)
2000
数量
42p
大きさ
30cm