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セラミックス薄膜研究報告書 1

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セラミックス薄膜研究報告書. 1

国立国会図書館請求記号
ND371-G144
国立国会図書館書誌ID
000002886794
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/14250072
資料種別
図書
著者
関西大学工業技術研究所
出版者
関西大学工業技術研究所
出版年
2000.3
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
42p ; 30cm
NDC
549.8
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目次

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1
  • はしがき

    北嶋弘一(研究代表者)

  • TiAINコーティングエンドミルにおける冷風切削特性について

    北嶋弘一||宮崎剛治

    p.1ー18

  • イオンビームアシスト法によるチタンオキサイド薄膜の誘電率

    横田勝弘||中村和広||笹川知宏||鎌谷俊彦

    p.19ー30

  • 貴金属ナノ粒子を含有するFe2TiO5薄膜の作製と光陽極特性

    幸塚広光||池田勝彦||辰巳正和

    p.31ー42

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書誌情報

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デジタル

資料種別
図書
タイトルよみ
セラミックス ハクマク ケンキュウ ホウコクショ
巻次・部編番号
1
著者標目
関西大学工業技術研究所 カンサイ ダイガク コウギョウ ギジュツ ケンキュウジョ ( 00286328 )典拠
出版年月日等
2000.3
出版年(W3CDTF)
2000
数量
42p
大きさ
30cm