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セラミックス薄膜研究報告書 2

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セラミックス薄膜研究報告書. 2

国立国会図書館請求記号
ND371-G144
国立国会図書館書誌ID
000002972845
資料種別
図書
著者
関西大学工業技術研究所
出版者
関西大学工業技術研究所
出版年
2001.3
資料形態
ページ数・大きさ等
50p ; 30cm
NDC
549.8
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目次

  • まえがき

    北嶋弘一

  • (Ti,Al)コーティングエンドミルの冷風切削特性について(チタン合金の切削への適用)/ 1ー18

    北嶋弘一||宮崎剛治

  • スクラッチ試験によるTiNセラミックス皮膜の破壊特性評価—AE法の適用—/ 19ー27

    新家昇||宅間正則

  • イオンビームアシスト法による高誘電率のチタンオキサイド薄膜の作成/ 28ー40

    横田勝弘||中村和広||鎌谷俊彦

  • 1回のゾルーゲルコーティング操作による亀裂のない厚さ1μm以上のセラミック薄膜の作製/ 41ー44

    幸塚広光||池田勝彦||辰巳正和

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
セラミックス ハクマク ケンキュウ ホウコクショ
巻次・部編番号
2
著者標目
関西大学工業技術研究所 カンサイ ダイガク コウギョウ ギジュツ ケンキュウジョ ( 00286328 )典拠
出版年月日等
2001.3
出版年(W3CDTF)
2001
数量
50p
大きさ
30cm