Plasma processing : proceedings of the third Symposium on Plasma Processing / edited by J. Dieleman, R.G. Frieser, G.S. Mathad ; [sponsored by] Dielectrics and Insulation and Electronics Divisions. (Proceedings)

Plasma processing : proceedings of the third Symposium on Plasma Processing / edited by J. Dieleman, R.G. Frieser, G.S. Mathad ; [sponsored by] Dielectrics and Insulation and Electronics Divisions.

(Proceedings)

国立国会図書館請求記号: M15-A1355
国立国会図書館書誌ID: 000003124672

資料種別: 図書

著者: Symposium on Plasma Processing (3rd : 1981 : Denver, Colo.)ほか

出版者: Electrochemical Society

出版年: c1982.

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: xi, 516 p. : ill. ; 23 cm.

NDC: -

すべて見る

書店で探す

書誌情報

この資料の詳細や典拠（同じ主題の資料を指すキーワード、著者名）等を確認できます。

紙

資料種別: 図書
タイトル: Plasma processing : proceedings of the third Symposium on Plasma Processing / edited by J. Dieleman, R.G. Frieser, G.S. Mathad ; [sponsored by] Dielectrics and Insulation and Electronics Divisions.
シリーズタイトル: Proceedings
シリーズ著者・編者: The Electrochemical Society
v. 82-6
タイトル標目: Proceedings (Electrochemical Society) ; v. 82-6.
著者標目: Symposium on Plasma Processing (3rd : 1981 : Denver, Colo.)
Dieleman, J.
Frieser, R. G.
Mathad, G. S.
Electrochemical Society. Dielectrics and Insulation Division.
Electrochemical Society. Electronics Division.
出版事項: Pennington, N.J. (10 S. Main St., Pennington 08534) : Electrochemical Society
出版年月日等: c1982.
出版年（W3CDTF）: 1982
数量: xi, 516 p. : ill. ; 23 cm.
出版地（国名コード）: US
本文の言語コード: eng
件名標目: Plasma engineering -- Congresses.
LCC: TA2005
DDC: 621.044
NDLC: M15
ND
書誌注記: Includes bibliographical references and indexes.
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: M15-A1355
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000003124672
http://id.ndl.go.jp/bib/000003124672
LC control number: 82082859
https://lccn.loc.gov/82082859
整理区分コード: 211