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プラズマ半導体プロセス工学 : 成膜とエッチング入門

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プラズマ半導体プロセス工学 : 成膜とエッチング入門

国立国会図書館請求記号
ND371-H30
国立国会図書館書誌ID
000004203302
資料種別
図書
著者
市川幸美, 佐々木敏明, 堤井信力 共著
出版者
内田老鶴圃
出版年
2003.7
資料形態
ページ数・大きさ等
289p ; 22cm
NDC
549.8
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資料詳細

要約等:

プラズマCVDとエッチング技術の基礎を整理,解説(提供元: 出版情報登録センター(JPRO))

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書誌情報

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資料種別
図書
ISBN
4-7536-5048-0
タイトルよみ
プラズマ ハンドウタイ プロセス コウガク : セイマク ト エッチング ニュウモン
著者・編者
市川幸美, 佐々木敏明, 堤井信力 共著
著者標目
市川, 幸美 イチカワ, ユキミ ( 00924580 )典拠
佐々木, 敏明 ササキ, トシアキ ( 00924581 )典拠
堤井, 信力, 1936- テイイ, シンリキ, 1936- ( 00083468 )典拠
出版年月日等
2003.7
出版年(W3CDTF)
2003
数量
289p