Lithography for semiconductor manufacturing 2 : 30 May-1 June 2001, Edinburgh, UK. : May 2001, Edinburgh, UK.

• 資料種別: 図書
• ISBN: 0819441058
• ISSN（シリーズ）: 0277-786X
• タイトル: Lithography for semiconductor manufacturing 2 : 30 May-1 June 2001, Edinburgh, UK. : May 2001, Edinburgh, UK.
• シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 4404
• タイトル標目: Proceedings of SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 4404.
• 著者標目: European Optical Society (EOS); Mack, Chris A.; Stevenson, Tom.; Institution of Electrical Engineers, UK.
• 出版事項: Bellingham : SPIE
• 出版年月日等: c2001.
• 出版年（W3CDTF）: 2001
• 数量: vii, 422 p. : ill. ; 28 cm.
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• 件名標目: Integrated circuits -- Very large scale integration -- Congresses.; Printed circuits -- Congresses.; Lithography -- Congresses.
• NDLC: M17
• 一般注記: Papers.
• 書誌注記: Includes bibliographic references and author index.
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-03-2889
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000004237819; http://id.ndl.go.jp/bib/000004237819
• RLIN番号: CSUGA4661118-B
• 整理区分コード: 215