半導体集積回路素子の配線形成用CVDに関する研究

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: 半導体集積回路素子の配線形成用CVDに関する研究
• タイトルよみ: ハンドウタイ シュウセキ カイロ ソシ ノ ハイセン ケイセイヨウ CVD ニ カンスル ケンキュウ
• 著者・編者: 関口敦 [著]
• 著者標目: 関口, 敦 セキグチ, アツシ
• 出版事項: [関口敦]
• 出版年月日等: [2003]
• 出版年（W3CDTF）: 2003
• 数量: 1冊
• 付属資料: CD-ROM1枚
• 並列タイトル等: Study on chemical vapor deposition for advanced metallization in ULSI fabrication processes
• 授与機関名: 青山学院大学
• 授与年月日: 平成15年3月12日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2003
• 報告番号: 乙第69号
• 学位: 博士 (理学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2003-M868
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000004239899; http://id.ndl.go.jp/bib/000004239899
• 整理区分コード: 213