Development of a Polysilicon Process Based on Chemical Vapor Deposition of Dichlorosilane in an Advanced Siemen's Reactor. Final rept. 11 Oct 1982 - 21 May 1983 NASA-CR-174445 N85-20532 NAS-126174445 DOEJPL-9555338308

Development of a Polysilicon Process Based on Chemical Vapor Deposition of Dichlorosilane in an Advanced Siemen's Reactor. Final rept. 11 Oct 1982 - 21 May 1983

NASA-CR-174445 N85-20532 NAS-126174445 DOEJPL-9555338308

国立国会図書館請求記号: LS-N85/20532
国立国会図書館書誌ID: 000004942807

資料種別: 規格・テクニカルリポート類

著者: Arevidson, A. Nほか

出版者: -

出版年: -

資料形態: マイクロ

ページ数・大きさ等: microfiche 43 p

NDC: -

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書誌情報

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マイクロ

資料種別: 規格・テクニカルリポート類
タイトル: Development of a Polysilicon Process Based on Chemical Vapor Deposition of Dichlorosilane in an Advanced Siemen's Reactor. Final rept. 11 Oct 1982 - 21 May 1983
著者・編者: Arevidson, A. N
Sawyer, D. H
Muller, D. M
数量: microfiche 43 p
資料種別（注記）: [microform]
リポート番号: テクニカルリポート番号 : NASA-CR-174445
テクニカルリポート番号 : N85-20532
テクニカルリポート番号 : NAS-126174445
テクニカルリポート番号 : DOEJPL-9555338308
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: LS-N85/20532
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000004942807
http://id.ndl.go.jp/bib/000004942807
整理区分コード: 291